Glimmer in Fahrzeuglacken, Rohstoffe für Aviation und Space-Applikationen, aber auch Zusätze bei der Herstellung von waffentechnischen Systemen benötigen homogene und feine Kornstrukturen, die im Feinstbereich fraktionell scharf abgegrenzt werden müssen. Hierbei dürfen die Produkte möglichst wenig mechanisch belastet und Siebe auch bei Maschenweiten von 35–60 µm frei bleiben. Um all dies in einer möglichst flexibel einstellbaren Anlage zu gewährleisten, wurde die Ebbecke Ultraschallsiebanlage EUS 2000 flex entwickelt. Diese besteht aus einer Kombination der bei Ebbecke bewährten Langhubsiebtechnologie mit der modernen Pulsations-Ultraschallerregung. Die Langhubtechnologie gewährleistet eine schonende Bewegung des Siebgutes in wellenartigen Bewegungen bei einer einstellbaren Siebneigung, Hublänge sowie Hubfrequenz. Überlagert wird dies durch die stufenlos einstellbaren Ultraschallerreger, die in verschiedene Segmente unterteilt sind. So können je nach Belastung des Siebes verschiedenartige Erregungen zu einem optimalen Siebergebnis führen. Die Anlage verfügt über eine Siebfläche von 2m2 bei einer Sieblänge von 2.600 mm im geschlossenen System unter Hygienebedingungen.